Información Básica.
No. de Modelo.
Alumina Polishing Lapping Plate
Origen
China
Código del HS
6909191200
Capacidad de Producción
500pic /Month
Descripción de Producto
99.7de alta pureza de la placa de recubrimiento de pulido de alúMina para fabricantes de equipos de semiconductores avanzados Pingxiang Chemshun Ceramics Co.,Ltd a la pureza del 99,7%de la alúMina ceráMicas disco oblea de recubrimiento de zafiro pulido plato giradiscos DescripcióN: CeráMica Chemshun' de la alúMina ceráMicas de recubrimiento de zafiro pulido oblea PIBM tiene forma de la produccióN de proceso.Su internaltional una Avanzada tecnologíA. Exitosa PIBM resolver el problema clave de la grieta y deformacióN de la ceráMica de alúMina de gran tamañO.TecnologíA PIBM abriráOtra ventana de la ceráMica fina. AplicacióN: Pingxiang Chemshun ceráMica' la pureza del 99,7% de ceráMica alúMina de recubrimiento de zafiro pulido oblea gire a la tabla como un componente importante del proceso de pulido mecáNico quíMico CMP.El CMP es la necesaria para la produccióN de proceso de zafiro, y obleas.Debido a la ceráMica de alúMina de gran pureza de la placa de pulido de excelente rendimiento laboral, es la sustitucióN de la oblea de la placa de metal pulido. Chemshun ceráMica alúMina pulido de la placa, disco de ceráMica de recubrimiento caracteríSticas : AlúMina de gran pureza Alta rigidez (dureza, resistencia mecáNica, flexióN fuerza, resistencia al desgaste) Alta durabilidad quíMica Forma y superficie de control de rugosidad Para una amplia variacióN de espesor y tamañO de la oblea Capacidad de resistir el fuerte equipo de procesamiento de Microchip el medio ambiente La alta calidad y precio bastante en comparacióN con la placa de pulido de alúMina Japane TamañO: El disco, talla de anillo debajo ∅850mm de espesor 45mm. Por ejemplo:D150mm, D360mm, D450MM D600mm. Productos personalizados con diferentes tamañOs son aceptadas. El paráMetro principal :(/ QuíMica fíSica):
CeráMica Chemshun la pureza del 99,7% de ceráMica alúMina Zafiro Pulido Tocadiscos ampliamente utilizado en el equipo de fabricacióN de semiconductores.No sóLo nos producen la placa de ceráMica de alúMina de alta calidad de la placa de pulido, pero tambiéN otras series de gran tamañO de la alúMina ceráMicas de alta pureza como 1200x500x20mm sustratos de ceráMica para el equipo de fabricacióN de LCD, semiconductor delviery pistas, vacíO de las partes, piezas mecáNicas, chalecos de ceráMica. Para obtener máS informacióN Bienvenido a direclty contacte con nosotros.
| Unidad | 99.7 de la alúMina ceráMicas Chemshun | ||
| Las propiedades generales | Al2O3 contenido | Wt% | 99.7-99.9 |
| Densidad | Gm/cc | 3.94-3.97 | |
| El color | - | El marfil | |
| AbsorcióN de agua | % | 0 | |
| Propiedades mecáNicas | Fuerza de flexióN (MOR) 20 °C. | Mpa(psix10^3) | 440-550 |
| MóDulo eláStico de 20ºC | El GPa (psix10^6) | 375 | |
| Dureza Vickers | El GPA (kg/mm2) R45N. | >=17 | |
| Resistencia a la flexióN | El GPA | 390 | |
| Resistencia de 25ºC | MPa(psix10^3) | 248 | |
| Tenacidad de Fractura (K I c) | Amp* m^1/2 | 4-5 | |
| Properities téRmica | Conductividad téRmica(20ºC) | W/mk | 30 |
| Coeficiente de expansióN téRmica(25-1000ºC) | 1x 10^-6/ºC | 7.6 | |
| El choque téRmico resistencia | °C. | 200 | |
| La máXima temperatura de uso | °C. | 1700 | |
| Properities eléCtrico | Rigidez dieléCtrica (1MHz). | Ac-kv/mm(ac v/mil) | 8.7 |
| La constante dieléCtrica(1 MHz). | 25ºC. | 9.7 | |
| La resistividad de volumen | Ohm-cm (25ºC) | >10^14 | |
| Ohm-cm (500ºC) | 2x10^12 | ||
| Ohm-cm (1000ºC) | 2x10^7 |